在過去的幾年中，臭氧在半導(dǎo)體工業(yè)的應(yīng)用越來越受到重視，特別是在晶圓清洗過程。
在半導(dǎo)體行業(yè)，清潔度是一個(gè)絕對的要求。即使是很小的污染物痕跡也會(huì)導(dǎo)致晶圓表面區(qū)域結(jié)構(gòu)的改變。自80年代末以來，在芯片生產(chǎn)中采用臭氧的清潔工藝已經(jīng)被使用。隨著修改和新方法的開發(fā)，人們的興趣繼續(xù)增長。每個(gè)晶圓處理步驟都是潛在的污染源，每個(gè)步驟都有其特定類型的污染物。這意味著一個(gè)有效的清洗過程包括幾個(gè)清洗步驟，以去除晶體上的所有污染物。同時(shí)“絕對清潔”的行業(yè)要求擴(kuò)展到設(shè)備（臭氧發(fā)生器，接觸到的設(shè)備），這意味著不會(huì)產(chǎn)生顆粒，沒有金屬，離子或有機(jī)污染物。
有效的芯片清洗過程的要求是去除所有會(huì)影響元件功能或可靠性的污染物?？赡艿奈廴疚锟梢苑譃橐韵聨最悾?/strong>
1.顆粒：主要來自周圍環(huán)境和人類（皮膚，頭發(fā)，衣服），但溶劑和移動(dòng)的零件也可以作為顆粒源
2.有機(jī)雜質(zhì)：例如沒有完全去除光刻膠或溶劑
3.原子污染：來自溶劑或機(jī)器的金屬元素膜
晶圓清洗是目前半導(dǎo)體生產(chǎn)線上最重要、最嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓ば蛑?，在很多的清洗工序中，只要有一道工序達(dá)不到要求，就會(huì)導(dǎo)致征辟的芯片的報(bào)廢和流程不順暢，傳統(tǒng)的RCA清洗法需要大量的化學(xué)試劑，帶來了成本的增加以及均勻性不一致的問題，而臭氧是一種具有較強(qiáng)氧化性的氣體，把它溶解在超純水中，噴灑在晶圓表面，可以將表面的有機(jī)污染物氧化為二氧化碳和水，非常容易就可以去除表面有機(jī)物，同時(shí)還會(huì)在晶圓表面形成一層致密的氧化膜。因此德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器非常適合運(yùn)用在半導(dǎo)體特別是晶圓清洗上。
德國安索羅斯ANSEROS是一家生產(chǎn)臭氧發(fā)生器的廠家，具有最高的臭氧輸出量，使用的材料可以完全不含金屬，意味著臭氧氣體和臭氧水是顆粒干凈的。COM-AD 臭氧發(fā)生器是用石英和PFA制造的，意味著清潔，在放電模塊的結(jié)構(gòu)上也是如此。COM-VD 臭氧發(fā)生器是用鋁制模塊制成的。
德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器COM-AD系列是用石英和PFA材料制造的，采用電暈法，產(chǎn)生臭氧的效率高，且能精準(zhǔn)控制臭氧濃度。
●不含金屬 ●無密封 ●無顆粒排放 ●免維護(hù) ●無磨損 ●質(zhì)量保證
廣泛運(yùn)用在半導(dǎo)體加工，水殺菌，超純水處理，食品生產(chǎn)，研發(fā)，藥品生產(chǎn)，試驗(yàn)裝置等方面。
德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器COM-VD系列是專門為獲得高濃度臭氧而設(shè)計(jì)的。在低氧氣消耗量的氣相中，臭氧最高濃度可達(dá)到 300g O3/Nm3。
臭氧發(fā)生器COM-VD能與ANSEROS安索羅斯AOPR反應(yīng)器配合使用，其質(zhì)量轉(zhuǎn)移效果非常好，可以將大量的臭氧轉(zhuǎn)換成液相，從而達(dá)到強(qiáng)力去除COD的目的。
臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品特點(diǎn)：
●最高臭氧濃度 ●低耗氧量 ●低功耗 ●相關(guān)反應(yīng)性高 ●低AOPR(高級氧化工藝)能耗
德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器可以結(jié)合在CVD（化學(xué)氣相沉積）機(jī)器中，CVD（化學(xué)氣相沉積）機(jī)器在腔體中使用臭氧發(fā)生器產(chǎn)生臭氧氣體，在腔體后使用臭氧破壞器（CAT-HO-8000）。
（1）在半導(dǎo)體工藝中，德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器可以長時(shí)間正常運(yùn)行，給晶圓清洗帶來長期的可靠性；
（2）德國ANSEROS安索羅斯已經(jīng)為美國，德國，意大利，英國等30個(gè)客戶提供服務(wù)，這些企業(yè)累計(jì)使用臭氧發(fā)生器有17年的運(yùn)行時(shí)間，每天24小時(shí)。
翁開爾是德國ANSEROS安索羅斯中國總代理，擁有近40年的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，能根據(jù)您的需求為您提供專業(yè)的解決方案，歡迎致電【13202947058】咨詢。
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